Premio SAMSUNG EGO INNOVATION PROJECT para nuestras alumnas ELENA ZAPICO y RAQUEL BUJ
Nuestras alumnas Elena Zapico y Raquel Buj han sido premiadas en el Samsung EGO Innovation Project, un certamen que une moda y tecnología. La firma ZAP & BUJ ha presentado su proyecto WALL DRESS, una propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. El proyecto verá la luz el próximo 19 de septiembre en la pasarela MERCEDES BENZ FASHION WEEK. Elena Zapico realizó sus prácticas en la empresa SYBILLA y estuvo trabajando 2 años en el departamento de complementos.
WALL DRESS aproxima la arquitectura al cuerpo «haciendo posible la recuperación de la cercanía y conexión entre ambos que se ha ido desvaneciendo en los espacios que habitamos». La propuesta presenta una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierten en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma (MSP y MSA). Con este proyecto han trabajado dentro del campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para el desarrollo de la parte tecnológica de la propuesta, ZAP & BUJ ha colaborado con AITEX , un centro de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil y la confección de textiles técnicos, y con el Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros del CSIC.
